Die Geschichte der IONTOF - 30 Jahre Innovation
Das Unternehmen wurde 1989 von Prof. Alfred Benninghoven, Dr. Ewald Niehuis und Thomas Heller gegründet, um die ursprünglichen Forschungsarbeiten von Prof. Benninghoven und seinem Team, die in den frühen 1980er Jahren an der Universität Münster begannen, zu kommerzialisieren.

Seit der ursprünglichen Konzeption hat Münster mit seinen Akademikern und Unternehmern einen bedeutenden und kontinuierlichen Beitrag zur Entwicklung und Verbreitung der TOF-SIMS-Technik geleistet.Wenn Sie das Neueste über TOF-SIMS wissen wollen ist Münster mit Sicherheit der richtige Ort.

TOF-SIMS ist zu einer Standardmethode für ein Oberflächenanalyselabor geworden und hat andere, schon länger etablierte Oberflächentechniken überholt, sowohl in Bezug auf die Leistung als auch auf die Anzahl der verkauften Geräte.
Die Ingenieure von IONTOF sind nicht nur mit der Entwicklung von Geräten beschäftigt, sondern betreiben auch Grundlagenforschung. Daher ist IONTOF Teil des nationalen deutschen Kompetenzzentrums "Nanoanalytik".

Die Räumlichkeiten von IONTOF befinden sich in einem Wissenschaftspark in der Nähe der Universität, des Technologiehofs, des Zentrums für Nanotechnologie (CeNTech) und des Max-Planck-Instituts für Zellbiologie, was eine praktische Zusammenarbeit ermöglicht und ein anregendes Arbeitsumfeld bietet.

Die Beteiligung an nanowissenschaftlichen Projekten ermöglicht es uns, die instrumentellen Anforderungen der Nanowissenschaften zu verstehen und in unsere Instrumente zu integrieren. IONTOF ist auch ein wichtiger Partner in vielen anderen nationalen und internationalen Projekten der Oberflächenforschung.
IONTOF unternimmt weiterhin erhebliche Entwicklungsanstrengungen. Unsere Strategie, die innovativste Ionenstrahltechnologie für die Oberflächenforschung zu entwickeln, und die kontinuierlichen Investitionen in die Entwicklung unserer Instrumente bringen stetig neue Instrumente mit noch besserer Leistung hervor. Ein Beispiel ist die innovative Qtac-Produktlinie für hochempfindliche LEIS, die von IONTOF in Zusammenarbeit mit der führenden Gruppe von Prof. Brongersma bei Calipso BV entwickelt wurde.

IONTOF arbeitet eng mit seinem Schwesterunternehmen Tascon zusammen, das analytische Dienstleistungen anbietet und Demonstrations- und Anwendungseinrichtungen bereitstellt. Die Zusammenarbeit mit Tascons Anwendungsexperten ermöglicht es uns, neue Anwendungen für die TOF-SIMS-Technik zu erforschen, um deren Einsatz noch weiter auszuweiten.
TOF-SIMS II
TOF-SIMS II
Erste TOF Massenauflösung > 10.000
Hohe Massengenauigkeit im niedrigen ppm-Bereich
Erste Ladungskompensation für die Analyse von Isolatoren
TOF-SIMS III
TOF-SIMS III
Flexibles Probenhandling mit 5-Achsen-Probenaufnahme
Bewegungsloses, ultraschnelles Blanking der Ga-Quelle
8 Wafer-Analysemöglichkeit
TOF-SIMS IV
TOF-SIMS IV
Erste Dual Beam Mode Tiefenprofilierung
Patentierter Burst-Modus für die Bildgebung
Macroraster für großflächige Analysen
SF6-Quelle
12-Wafer-Analysefähigkeit
Erste Ergebnisse der Bildgebung mit Au-Cluster-Ionen